知識 グラファイトの熱伝導率とは?その幅広い範囲と用途のガイド
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 2 weeks ago

グラファイトの熱伝導率とは?その幅広い範囲と用途のガイド

グラファイトの熱伝導率は単一の値ではなく、一般的な合成グレードでは25~470ワット/メートル・ケルビン (W/mK) と、非常に広い範囲にわたります。この値は材料の特定の構造、純度、配向に大きく依存し、熱分解グラファイトのような特殊な形態では、特定の方向で1,950 W/mKを超えることもあり、鉄や鋼などの金属をはるかに上回ります。

核心的な問題は、「グラファイト」が単一の物質ではなく、材料のカテゴリであるということです。その熱性能は内部の結晶構造と製造プロセスによって決定されるため、適切な選択は特定の工学的目標に完全に依存します。

なぜ「グラファイト」は単一の答えではないのか

適切なグラファイトを選択するには、その熱伝導率が劇的に変化する原因を理解する必要があります。それは、その独自の原子構造と、その構造が最終製品でどのように配置されているかに帰着します。

異方性の重要な役割

グラファイトは、グラフェンシートが積み重なった層で構成されています。これらのシート内の結合は非常に強く、熱が層に沿って非常に効率的に移動することを可能にします。これは面内(a-b)方向として知られています。

しかし、層間の結合は非常に弱いです。これにより、熱が一方の層から次の層へ移動することが困難になります。これは面直(c)方向として知られています。

この特性、すなわち異方性が最も重要な単一の要因です。熱はグラファイトの平面に沿って容易に移動しますが、それらを横切って移動することは困難です。

形態とグレードの影響

製造業者はこれらのグラファイト平面の配向を制御でき、その結果、特性が大きく異なるさまざまなグレードが生まれます。

  • 等方性グラファイト:結晶粒がランダムに配向しています。これにより、すべての方向に均一ですが中程度の熱伝導率が得られ、通常は85-130 W/mKの範囲です。
  • 押出成形または成形グラファイト:製造プロセスによりグラファイト平面が部分的に整列され、中程度の異方性と、一方向で他方向よりも高い伝導率が生まれます。
  • 高配向熱分解グラファイト(HOPG):これは、層がほぼ完全に整列された高純度の合成形態です。極端な異方性を示し、面内伝導率は1,950 W/mKを超え(銅の4倍以上)、面直伝導率は10 W/mK未満(ステンレス鋼と同程度)になることがあります。

実用的な値の範囲

参考までに、これらの値を一般的な参考文献で言及されている金属と比較してみましょう。

  • 鉄:約80 W/mK
  • 炭素鋼:約50 W/mK
  • ステンレス鋼:約15 W/mK

標準的な等方性グラファイト(約120 W/mK)でさえ、鋼よりもはるかに優れた導体です。放熱用に設計された特殊なグレードは、それ自体が別格です。

グラファイトの熱伝導率とは?その幅広い範囲と用途のガイド

トレードオフの理解

高い熱伝導率は魅力的ですが、考慮すべき唯一の要因ではありません。グラファイトの独自の特性は、特定の設計上の課題をもたらします。

異方性:諸刃の剣

熱分解グラファイトの卓越した面内伝導率は、理想的な放熱材となります。熱いスポットから表面全体に熱エネルギーを迅速に移動させることができます。

しかし、その低い面直伝導率は、材料を介して取り付けられたヒートシンクに熱を移動させるのには不向きであることを意味します。これは、設計で考慮しないと熱的なボトルネックを生み出す可能性があります。

温度の影響

高度に結晶性のグラファイトの場合、熱伝導率は通常、室温付近またはそれよりわずかに低い温度でピークに達し、その後温度が上昇するにつれて減少します

結晶性が低い、またはアモルファスな形態の場合、その逆が当てはまり、特定の範囲で温度とともに伝導率が増加することがあります。特定のグレードと用途の意図する動作温度については、製造元のデータシートを参照することが重要です。

純度、密度、コスト

原則として、グラファイトの熱性能が高いほど、純度、密度、および加工の複雑さが高くなります。これは、HOPGのような高性能グレードが、一般的な等方性または成形グラファイトブロックよりも著しく高価であることを意味します。

用途に適したグラファイトの選択

選択は、主要な熱管理目標を明確に理解することによって行われるべきです。

  • 表面全体に熱を拡散させることが主な焦点である場合(例:CPUヒートスプレッダや電子機器の熱界面):伝導面が表面と平行になるように配向された、熱分解グラファイトのような高度に異方性の材料が必要です。
  • バルクで熱を伝導させることが主な焦点である場合(例:るつぼや発熱体):等方性グラファイトがより良い選択であり、すべての方向に予測可能で均一な熱性能を提供します。
  • 一般的な熱用途で費用対効果が主な焦点である場合:標準的な成形または押出グラファイトブロックは、特殊なグレードの高いコストなしに、鋼のような金属よりも大幅な性能向上をもたらします。

最終的に、グラファイトを多用途でありながら高度に専門化された材料ファミリーとして扱うことが、その驚くべき熱特性を活用するための鍵となります。

要約表:

グラファイトの種類 代表的な熱伝導率 (W/mK) 主な特徴
等方性グラファイト 85 - 130 すべての方向に均一で中程度の伝導率
熱分解グラファイト (HOPG) >1,950 (面内) 極端な異方性; 放熱に最適
一般的な合成グレード 25 - 470 幅広い範囲; 構造と純度に依存

熱管理のニーズに合った適切なグラファイトの選択でお困りですか? KINTEKは、高性能ラボ機器と消耗品を専門としており、実験室および産業用途向けに調整された幅広いグラファイト材料を取り揃えています。当社の専門家が、均一な加熱のための等方性グラファイトが必要な場合でも、優れた放熱のための特殊な熱分解グラファイトが必要な場合でも、最適なグレードの選択をお手伝いします。今すぐお問い合わせください。お客様の特定の要件について話し合い、適切な材料ソリューションでプロジェクトの効率を高めましょう!

関連製品

よくある質問

関連製品

縦型高温黒鉛化炉

縦型高温黒鉛化炉

最高 3100℃ までの炭素材料の炭化および黒鉛化を行う縦型高温黒鉛化炉。炭素環境で焼結された炭素繊維フィラメントおよびその他の材料の成形黒鉛化に適しています。冶金学、エレクトロニクス、航空宇宙分野で、次のような高品質の黒鉛製品を製造する用途に使用できます。電極とるつぼ。

超高温黒鉛化炉

超高温黒鉛化炉

超高温黒鉛化炉は、真空または不活性ガス環境下で中周波誘導加熱を利用します。誘導コイルは交流磁場を生成し、黒鉛るつぼ内に渦電流を誘導し、ワークピースを加熱して熱を放射し、ワークピースを希望の温度にします。この炉は主に炭素材料、炭素繊維材料、その他の複合材料の黒鉛化および焼結に使用されます。

連続黒鉛化炉

連続黒鉛化炉

高温黒鉛化炉は、炭素材料の黒鉛化処理のための専門的な装置です。高品質の黒鉛製品を生産するための重要な設備です。高温、高効率、均一な加熱を実現します。各種高温処理や黒鉛化処理に適しています。冶金、エレクトロニクス、航空宇宙などの業界で広く使用されています。

高熱伝導膜黒鉛化炉

高熱伝導膜黒鉛化炉

高熱伝導率皮膜黒鉛化炉は温度が均一で、エネルギー消費が少なく、連続運転が可能です。

1400℃アルミナ管炉

1400℃アルミナ管炉

高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

IGBT黒鉛化実験炉

IGBT黒鉛化実験炉

高い加熱効率、使いやすさ、正確な温度制御を備えた大学や研究機関向けのソリューションであるIGBT黒鉛化実験炉。

1700℃アルミナ管炉

1700℃アルミナ管炉

高温管状炉をお探しですか?アルミナ管付き1700℃管状炉をご覧ください。1700℃までの研究および工業用途に最適です。

2200 ℃グラファイト真空炉

2200 ℃グラファイト真空炉

最高使用温度2200℃のKT-VG黒鉛真空炉は、様々な材料の真空焼結に最適です。詳細はこちら

ボトムリフト炉

ボトムリフト炉

ボトムリフティング炉を使用することで、温度均一性に優れたバッチを効率的に生産できます。2つの電動昇降ステージと1600℃までの高度な温度制御が特徴です。

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉で優れた熱制御を実現。インテリジェントな温度マイクロプロセッサー、TFTタッチスクリーンコントローラー、高度な断熱材を装備し、1700℃まで正確に加熱します。今すぐご注文ください!

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

1200℃ 石英管付き分割管炉

1200℃ 石英管付き分割管炉

KT-TF12 分割式管状炉: 高純度絶縁、発熱線コイル内蔵、最高温度 1200℃。1200C.新素材や化学蒸着に広く使用されています。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

高温脱バインダー・予備焼結炉

高温脱バインダー・予備焼結炉

KT-MD 各種成形プロセスによるセラミック材料の高温脱バインダー・予備焼結炉。MLCC、NFC等の電子部品に最適です。

2200℃タングステン真空炉

2200℃タングステン真空炉

当社のタングステン真空炉で究極の高融点金属炉を体験してください。 2200℃まで到達可能で、先端セラミックスや高融点金属の焼結に最適です。高品質の結果を得るには、今すぐ注文してください。

Rtp加熱管炉

Rtp加熱管炉

RTP急速加熱管状炉で高速加熱。便利なスライドレールとTFTタッチスクリーンコントローラーを装備し、正確で高速な加熱と冷却を実現します。今すぐご注文ください!

モリブデン真空炉

モリブデン真空炉

遮熱断熱を備えた高構成のモリブデン真空炉のメリットをご確認ください。サファイア結晶の成長や熱処理などの高純度真空環境に最適です。

縦型管状炉

縦型管状炉

当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

1700℃ 制御雰囲気炉

1700℃ 制御雰囲気炉

KT-17A制御雰囲気炉:1700℃加熱、真空シール技術、PID温度制御、多用途TFTスマートタッチスクリーン制御装置、実験室および工業用。


メッセージを残す