化学気相成長法（CVD）は、さまざまなナノ材料を合成するための汎用性の高い方法であり、広く用いられている。
特に、ナノスケールの高品質で高性能な材料を製造するのに効果的である。
このプロセスでは、制御された条件下で、気体状の前駆物質を基板上で分解または反応させる。
これは通常、真空中と高温で行われる。
CVDによって合成されるナノ材料の主な5つのタイプ
1.炭素系ナノ材料
フラーレン
フラーレンは、炭素原子の球状、円筒状、楕円状のクラスターである。
CVDは、特定の条件下で炭素源を気化させることにより、フラーレンを製造することができる。
カーボンナノチューブ（CNT）
カーボンナノチューブ（CNT）は、グラフェンシートをロール状に巻いてチューブにしたものである。
CVDはその合成のための一般的な方法であり、炭化水素と金属触媒を用いて基板上にCNTを成長させる。
カーボンナノファイバー（CNF）
CNTと似ているが構造が異なるCNFもCVDで合成できる。
この場合、金属触媒の助けを借りることが多い。
グラフェン
グラフェンは、六方格子に配列した炭素原子の単層である。
金属基板上で炭化水素を分解し、グラフェン層を他の基板に転写することにより、CVDで合成できる。
2.その他のナノ材料
セラミック・ナノ構造
適切な前駆体を用いることで、セラミック材料をナノスケール構造で堆積させることができる。
炭化物
これらは、炭素と電気陰性度の低い元素との化合物である。
CVD技術によりナノ構造を形成することができる。
3.CVDのバリエーション
低圧CVD（LPCVD）と大気圧CVD（APCVD）
低圧CVD（LPCVD）と大気圧CVD（APCVD）は、圧力を調節して成膜プロセスを最適化する。
プラズマエンハンストCVD（PECVD）
プラズマを利用して化学反応速度を高め、蒸着温度を下げることができる。
光アシストCVDおよびレーザーアシストCVD
光を利用して化学反応を開始または促進し、成膜プロセスを精密に制御する。
4.CVDの課題と利点
CVDは高速生産が可能で、さまざまなナノ構造を作ることができる反面、課題もある。
そのひとつは、高熱を必要とするため温度制御が難しいことである。
さらに、前駆体の化学的性質が複雑で、精密なプロセス制御が必要なことも、制限要因となり得ます。
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