知識 FTIRにおける試料調製法とは?試料に合った適切な技術を選択する
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 17 hours ago

FTIRにおける試料調製法とは?試料に合った適切な技術を選択する

簡単に言うと、FTIR試料調製の主要な方法には、透過法、全反射減衰(ATR)法、および様々な形態の反射法があります。最も一般的な透過法では、油圧プレスを使用して臭化カリウム(KBr)錠剤を作成し、試料を包み込み、赤外光を透過させて分析します。

試料調製法を選択する上で最も重要な要素は、試料の物理的状態です。目標は、固体粉末、液体、高分子フィルム、コーティングなど、試料に最も適した技術を選択し、最小限の労力でクリーンで有用なスペクトルを得ることです。

透過法:古典的なアプローチ

透過法は、赤外線ビームが試料を直接通過するFTIRの元々の方法です。これにより、試料は赤外光を十分に薄く透明である必要があり、検出を可能にします。

固体粉末用KBr錠剤

これは、固体試料を分析するための伝統的で強力な技術です。

このプロセスでは、少量の試料を赤外線に対して透明な臭化カリウム(KBr)粉末と細かく粉砕します。

この混合物を錠剤成形器に入れ、油圧プレスで圧縮して、分析用の薄い半透明の固体ディスクまたは錠剤を形成します。

高分子用薄膜

一部の試料、特に高分子は、溶媒に溶解させ、IR透過性の窓にキャストすることができます。

溶媒が蒸発すると、材料の薄膜が残ります。この膜は、透過法で直接分析できます。高温フィルムメーカーを使用して、材料を薄膜にプレスすることもできます。

液体セル

液体試料の場合、少量を2枚の塩板(NaClやKBrなど)の間に置くことができます。

これらの板は既知の厚さのスペーサーで分離されており、IRビームの経路に液体を保持するセルを作成します。

全反射減衰(ATR):現代の主力

ATRは、そのシンプルさと速度から、最も人気のあるサンプリング技術の1つとなっています。これは、試料調製がほとんどまたはまったく必要ない表面分析技術です。

ATRの原理

ATRでは、IRビームは高屈折率の特殊な結晶(多くの場合、ダイヤモンド、セレン化亜鉛、またはゲルマニウム)に向けられます。

試料はこの結晶にしっかりと押し付けられます。IRビームは結晶表面で内部反射し、試料に数ミクロン浸透する「エバネッセント波」を生成します。

試料はこの波からその特性周波数でエネルギーを吸収し、減衰したビームは検出器に送られます。

ATRの主な利点

ATRは非常に高速で汎用性が高く、固体、粉末、ペースト、液体にうまく機能します。

粉砕、錠剤のプレス、溶媒の使用が不要なため、迅速な日常分析に最適な方法です。

反射法:困難な表面用

反射法は、不透明な材料や反射面上のコーティングなど、透過法やATR法では分析が困難な試料向けに設計されています。

拡散反射(DRIFTS)

拡散反射赤外フーリエ変換分光法(DRIFTS)は、粉末状または粗い表面の固体試料に最適です。

IRビームは試料に照射され、粉末中を散乱します。散乱した、または拡散反射した光は、ミラーによって集められ、検出器に送られます。

正反射

この技術は、金属ミラー上のポリマーコーティングのような、滑らかで反射性の表面を分析するために設計されています。

IRビームは、ミラーのように、試料の表面で等しく反対の角度で反射します。この単一の反射は、表面層に関する情報を提供します。

トレードオフの理解

すべてのアプリケーションに完璧な単一の方法はありません。その限界を理解することが、良好なスペクトルを得るための鍵となります。

透過法(KBr錠剤)

主な欠点は、手間がかかることです。試料を粉砕し、良好な錠剤をプレスするには時間とスキルが必要です。

さらに、KBrは非常に吸湿性があります(空気中の水分を容易に吸収します)。注意して扱わないと、スペクトルに大きく不要な水のピークが導入される可能性があります。

全反射減衰(ATR)

主なトレードオフは、ATRが表面技術であることです。IRビームは数ミクロンしか浸透しないため、試料が不均一な場合、バルク材料を代表しない可能性があります。

また、ATRスペクトルは、従来の透過スペクトルと比較して、わずかなバンドシフトや強度差がある場合があり、ライブラリマッチングにおいて考慮すべき要素となります。

反射法

DRIFTSや正反射からの反射スペクトルには、複雑な光学効果や散乱アーティファクトが含まれる場合があります。

これらは、標準的な吸収スペクトルに似たスペクトルを生成するために、特殊なソフトウェア補正(DRIFTSの場合はKubelka-Munk変換など)を必要とすることがよくあります。

目標に合った適切な選択をする

方法の選択は、常に試料の性質と必要な情報によって決定されるべきです。

  • 固体または液体の迅速な分析が主な焦点である場合:ATRは、その速度と使いやすさから、ほとんどの場合、最適な出発点です。
  • 固体粉末の高品質なライブラリマッチングまたは定量分析が主な焦点である場合:KBr錠剤法は、より困難ではありますが、多くの場合、優れた古典的な透過スペクトルを生成します。
  • プレスできない粗い粉末が主な焦点である場合:DRIFTSは、この種の試料向けに指定された技術です。
  • 光沢のある金属表面上の薄いコーティングが主な焦点である場合:正反射は、この目的のために特別に設計された唯一の方法です。

最終的に、技術を試料に合わせることが、FTIR分析を成功させるための最も重要なステップです。

要約表:

方法 最適試料 主な利点 主な制限
透過法(KBr錠剤) 固体粉末 高品質スペクトル、ライブラリマッチングに最適 時間消費型;KBrは吸湿性
全反射減衰(ATR) 固体、液体、ペースト(迅速分析) 最小限の準備、高速、汎用性 表面分析のみ(数ミクロン)
拡散反射(DRIFTS) 粗い粉末、固体 プレス不要、困難な試料に良好 アーティファクトの補正が必要なスペクトル
正反射 反射面上のコーティング 表面層の直接分析 滑らかで反射性の表面に限定

KINTEKの適切な機器で完璧なFTIR結果を達成

正確なFTIR分析には、適切な試料調製法の選択が不可欠です。KINTEKは、これらの技術を効果的かつ効率的に実行するために必要な高品質の実験装置を提供することに特化しています。

KINTEKは、お客様のFTIRワークフローを以下でサポートします。

  • 透過分析用の一貫したKBr錠剤を作成するための信頼性の高い油圧プレス
  • 最小限の試料準備で迅速な日常分析を行うための耐久性のあるATRアクセサリーと結晶。

お客様のラボが医薬品、材料科学、品質管理、学術研究のいずれに焦点を当てているかにかかわらず、適切なツールを持つことで信頼性の高いデータが保証されます。当社の専門家が、お客様のFTIR試料調製を最適化するお手伝いをいたします。

今すぐお問い合わせください。お客様の特定のアプリケーションについて話し合い、ラボのニーズに最適なソリューションを見つけましょう。

当社の専門家にお問い合わせください

関連製品

よくある質問

関連製品

ボトムリフト炉

ボトムリフト炉

ボトムリフティング炉を使用することで、温度均一性に優れたバッチを効率的に生産できます。2つの電動昇降ステージと1600℃までの高度な温度制御が特徴です。

1800℃マッフル炉

1800℃マッフル炉

KT-18マッフル炉は日本Al2O3多結晶ファイバーとシリコンモリブデン発熱体を採用、最高温度1900℃、PID温度制御、7インチスマートタッチスクリーン。コンパクト設計、低熱損失、高エネルギー効率。安全インターロックシステムと多彩な機能。

1400℃マッフル炉

1400℃マッフル炉

KT-14Mマッフル炉は1500℃までの精密な高温制御が可能です。スマートなタッチスクリーン制御装置と先進的な断熱材を装備。

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉

1700℃マッフル炉で優れた熱制御を実現。インテリジェントな温度マイクロプロセッサー、TFTタッチスクリーンコントローラー、高度な断熱材を装備し、1700℃まで正確に加熱します。今すぐご注文ください!

1400℃アルミナ管炉

1400℃アルミナ管炉

高温用管状炉をお探しですか?当社のアルミナ管付き1400℃管状炉は研究および工業用に最適です。

1700℃アルミナ管炉

1700℃アルミナ管炉

高温管状炉をお探しですか?アルミナ管付き1700℃管状炉をご覧ください。1700℃までの研究および工業用途に最適です。

高温脱バインダー・予備焼結炉

高温脱バインダー・予備焼結炉

KT-MD 各種成形プロセスによるセラミック材料の高温脱バインダー・予備焼結炉。MLCC、NFC等の電子部品に最適です。

高圧管状炉

高圧管状炉

KT-PTF 高圧管状炉: 強力な正圧耐性を備えたコンパクトな分割管状炉。最高使用温度1100℃、最高使用圧力15Mpa。コントローラー雰囲気下または高真空下でも使用可能。

1200℃ 石英管付き分割管炉

1200℃ 石英管付き分割管炉

KT-TF12 分割式管状炉: 高純度絶縁、発熱線コイル内蔵、最高温度 1200℃。1200C.新素材や化学蒸着に広く使用されています。

マルチゾーン管状炉

マルチゾーン管状炉

当社のマルチゾーン管状炉を使用して、正確で効率的な熱試験を体験してください。独立した加熱ゾーンと温度センサーにより、制御された高温勾配加熱フィールドが可能になります。高度な熱分析を今すぐ注文してください。

モリブデン真空炉

モリブデン真空炉

遮熱断熱を備えた高構成のモリブデン真空炉のメリットをご確認ください。サファイア結晶の成長や熱処理などの高純度真空環境に最適です。

縦型管状炉

縦型管状炉

当社の縦型管状炉で、あなたの実験をより高度なものにしましょう。多用途の設計により、さまざまな環境や熱処理用途で使用できます。正確な結果を得るために、今すぐご注文ください!

2200 ℃グラファイト真空炉

2200 ℃グラファイト真空炉

最高使用温度2200℃のKT-VG黒鉛真空炉は、様々な材料の真空焼結に最適です。詳細はこちら

縦型高温黒鉛化炉

縦型高温黒鉛化炉

最高 3100℃ までの炭素材料の炭化および黒鉛化を行う縦型高温黒鉛化炉。炭素環境で焼結された炭素繊維フィラメントおよびその他の材料の成形黒鉛化に適しています。冶金学、エレクトロニクス、航空宇宙分野で、次のような高品質の黒鉛製品を製造する用途に使用できます。電極とるつぼ。

連続黒鉛化炉

連続黒鉛化炉

高温黒鉛化炉は、炭素材料の黒鉛化処理のための専門的な装置です。高品質の黒鉛製品を生産するための重要な設備です。高温、高効率、均一な加熱を実現します。各種高温処理や黒鉛化処理に適しています。冶金、エレクトロニクス、航空宇宙などの業界で広く使用されています。

1700℃ 制御雰囲気炉

1700℃ 制御雰囲気炉

KT-17A制御雰囲気炉:1700℃加熱、真空シール技術、PID温度制御、多用途TFTスマートタッチスクリーン制御装置、実験室および工業用。

9MPa空気加圧焼結炉

9MPa空気加圧焼結炉

空圧焼結炉は、先端セラミック材料の焼結に一般的に使用されるハイテク装置です。真空焼結と加圧焼結の技術を組み合わせ、高密度・高強度セラミックスを実現します。

Rtp加熱管炉

Rtp加熱管炉

RTP急速加熱管状炉で高速加熱。便利なスライドレールとTFTタッチスクリーンコントローラーを装備し、正確で高速な加熱と冷却を実現します。今すぐご注文ください!

分割マルチ加熱ゾーン回転管状炉

分割マルチ加熱ゾーン回転管状炉

2 ~ 8 の独立した加熱ゾーンを備えた高精度の温度制御を実現するマルチゾーン回転炉。リチウムイオン電池の電極材料や高温反応に最適です。真空および制御された雰囲気下で作業できます。

1400℃ 制御雰囲気炉

1400℃ 制御雰囲気炉

KT-14A制御雰囲気炉で精密な熱処理を実現。スマートコントローラー付きで真空密閉され、最高1400℃まで対応可能。


メッセージを残す