真空リークの速度を測定することは、真空システムの完全性と効率を維持するために非常に重要です。
このプロセスでは、真空チャンバーをポンプシステムから隔離し、指定された期間にわたって真空レベルの変化を観察します。
リーク率は通常、毎時ミクロン単位で表されます。
精度を確保するための4つの重要なステップ
1.最初のポンピング
炉はまず特定の真空レベル（通常1 x 10^-4 torr以上）までポンピングされる。
このステップにより、隔離前のシステムがベースライン真空になることが保証されます。
2.隔離
次にポンプシステムをファーネスチャンバーから隔離します。
これは、すべての真空バルブを閉じ、それ以上のポンピング動作を防ぐことによって行われる。
3.真空レベルのモニタリング
真空レベルは設定時間後（通常は30分後、60分後）に記録されます。
この間隔により、リークによる圧力上昇を検知することができます。
4.リーク率の計算
リーク率は、記録された真空レベルを比較することによって計算される。
期間中の圧力測定値の差を使用して、1時間当たりのミクロン単位のリーク率を決定する。
例えば、圧力が60分で1 x 10^-4 torrから1.0001 x 10^-4 torrに上昇した場合、リーク率は1時間当たり(1.0001 - 1) x 10^4ミクロンとなります。
重要性と許容基準
重要な用途
超合金や反応性金属の処理のような重要な用途では、処理される材料の完全性と品質を確保するために、5ミクロン/時間未満のリーク率が必須です。
通常の用途
通常の真空用途では、リーク率は10～20ミクロン/時を超えてはなりません。
リーク率が高くなると、残留酸素量が著しく増加し、熱処理工程に悪影響を及ぼす可能性があります。
定期点検
システムの完全性を維持し、酸素含有量の増加による熱処理結果の悪化に関する問題を防ぐため、定期的なリーク率チェックを推奨します。
方法論の正確さ
説明した方法では、システムを隔離して圧力を安定させることで、リーク率を正確に測定することができます。
これは、チャンバー内への空気の漏れ率を直接反映する。
この方法は、真空炉の効率と有効性を維持し、装置が様々な用途に必要な仕様を満たしていることを保証するために極めて重要です。
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