真空リーク率は、真空チャンバーをポンプシステムから隔離し、一定期間の真空レベルの変化を観察することによって測定される。リーク率は通常、毎時ミクロン単位で表されます。
測定プロセス：
- 最初のポンピング： 炉はまず特定の真空レベル（通常1 x 10^-4 torr以上）まで排気されます。このステップにより、隔離前のベースライン真空が確保されます。
- 隔離： 次にポンプシステムをファーネスチャンバーから隔離します。これは、すべての真空バルブを閉じ、ポンピング動作が続かないようにすることで行われます。
- 真空レベルのモニタリング： 真空レベルは設定時間後（通常は30分後、60分後）に記録されます。この間隔により、リークによる圧力上昇を検出できる。
- リーク率の計算： リーク率は、記録された真空レベルを比較することによって計算される。期間中の圧力測定値の差から、1時間当たりのリーク率をミクロン単位で求めます。例えば、圧力が60分で1 x 10^-4 torrから1.0001 x 10^-4 torrに上昇した場合、リーク率は1時間当たり(1.0001 - 1) x 10^4ミクロンとなります。
重要性と許容基準：
- 重要な用途： 超合金や反応性金属の処理のような重要な用途では、処理される材料の完全性と品質を確保するために、5ミクロン/時間未満のリーク率が必須である。
- 通常の用途： 通常の真空用途では、リーク率は10～20ミクロン/時を超えてはならない。リーク率が高くなると、残留酸素量が著しく増加し、熱処理工程に悪影響を及ぼす可能性があります。
- 定期的なチェック システムの完全性を維持し、酸素含有量の増加による熱処理結果の悪化に関連する問題を防ぐため、定期的なリーク率チェックを推奨する。
方法論の正確さ：
この方法は、システムを隔離して圧力を安定させることで、リーク率が正確に測定されることを保証する。この方法は、真空炉の効率と効果を維持し、装置が様々な用途に必要な仕様を満たしていることを保証するために極めて重要です。
