知識 ASTM標準ふるいとISO/BS標準ふるいとの違いは?4つの主な違いを解説
著者のアバター

技術チーム · Kintek Solution

更新しました 3 months ago

ASTM標準ふるいとISO/BS標準ふるいとの違いは?4つの主な違いを解説

ふるいに関しては、主に2つの規格があります:ASTMとISO/BSです。これらの規格には、粒度分析に影響するいくつかの重要な違いがあります。

ASTMとISO/BS標準ふるいの4つの主な違い

ASTM標準ふるいとISO/BS標準ふるいとの違いは?4つの主な違いを解説

1.ふるい直径の測定単位

  • ASTM規格: ふるい直径の単位はインチです。
  • ISO/BS規格: ふるい直径の単位はミリメートルです。

2.ふるい直径の測定

  • ASTM規格: 一般的な直径は8インチと12インチです。
  • ISO/BS規格: 対応する測定値は200mmと300mmです。
  • 比較: 実測値には若干の誤差があります。ASTMの8インチふるいは200mmではなく203mmに相当します。12インチふるいは300mmではなく305mmです。つまり、呼び径が8インチで200mm、12インチで300mmのふるいは、寸法の違いにより入れ子にすることができない。

3.メッシュ数とワイヤーの間隔

  • ASTM規格: ASTM規格:メッシュ番号は1インチ(25.4mm)当たりのワイヤー数を示す。このシステムは金網の密度に基づいている。
  • ISO/BS規格: ISO/BS規格:ワイヤースペーシングを使用し、ワイヤ間の距離を直接測定します。この方法では、より直接的にふるいの目開きを測定することができます。

4.試験ふるいの定義と製造における異なるアプローチ

  • ASTMとISO/BSの両規格は、粒度分析に正確で信頼できるツールを提供することを目的としています。
  • ASTMふるいとISO/BSふるいのどちらを選択するかは、試験環境と試験材料の具体的な要件によって決まります。
  • 試験所や試験施設では、業務に関連する規格や遵守すべき規制要件に基づいて、適切なふるいを使用していることを確認することが極めて重要です。

専門家にご相談ください

お客様の試験室に適したふるいを選択することで、精密かつ正確な粒度分布測定が可能になります。KINTEKでは、ASTMとISO/BS規格のふるいの重要な違いを理解し、お客様の試験ニーズに合った仕様の選択をお手伝いします。必要なふるいインチ径のASTMふるい またはISO/BS規格のふるい当社の高品質な製品は、お客様の試験環境の厳しい要求を満たすように設計されています。試験結果の精度に妥協は許されません。KINTEKにご連絡ください。 にお問い合わせください。お客様の粒子分析の成功を第一に考えています!

関連製品

手動冷間静水圧タブレットプレス (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

手動冷間静水圧タブレットプレス (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

Lab Manual Isostatic Press は、材料研究、薬局、セラミックス、電子産業で広く使用されているサンプル前処理用の高効率装置です。プレスプロセスの精密な制御が可能で、真空環境での作業が可能です。

電気割れた実験室の冷たい静的な出版物(CIP) 65T/100T/150T/200T

電気割れた実験室の冷たい静的な出版物(CIP) 65T/100T/150T/200T

分割型冷間等方圧プレスは、より高い圧力を供給することができるため、高い圧力レベルを必要とする試験用途に適しています。

自動実験室の冷たい静水圧プレス (CIP) 20T/40T/60T/100T

自動実験室の冷たい静水圧プレス (CIP) 20T/40T/60T/100T

自動ラボ用冷間静水圧プレスでサンプルを効率的に準備。材料研究、薬学、電子産業で広く使用されています。電動CIPと比較して、より高い柔軟性と制御性を提供します。

電気ラボ冷間静水圧プレス (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

電気ラボ冷間静水圧プレス (CIP) 12T / 20T / 40T / 60T

当社の電気ラボ冷間静水圧プレスを使用して、機械的特性が向上した高密度で均一な部品を製造します。材料研究、製薬、電子産業で広く使用されています。効率的、コンパクト、真空対応。

固体電池研究のための温かい静水圧プレス

固体電池研究のための温かい静水圧プレス

半導体ラミネーション用の先進的な温間静水圧プレス(WIP)をご覧ください。MLCC、ハイブリッドチップ、医療用電子機器に最適です。高精度で強度と安定性を高めます。

チタンシリコン合金(TiSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

チタンシリコン合金(TiSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

ラボ用の手頃な価格のチタン シリコン合金 (TiSi) 材料をご覧ください。当社のカスタム生産では、スパッタリング ターゲット、コーティング、粉末などのさまざまな純度、形状、サイズを提供しています。あなたの独自のニーズに最適なものを見つけてください。

真空管式ホットプレス炉

真空管式ホットプレス炉

高密度、細粒材用真空チューブホットプレス炉で成形圧力を低減し、焼結時間を短縮します。耐火性金属に最適です。

高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の二酸化ケイ素材料をお探しですか?当社の専門的にカスタマイズされた SiO2 材料には、さまざまな純度、形状、サイズがあります。今すぐ当社の幅広い仕様をご覧ください。

カーボングラファイトプレート - アイソスタティック

カーボングラファイトプレート - アイソスタティック

等方性カーボングラファイトは高純度グラファイトからプレス加工されています。ロケットノズル、減速材、グラファイト反応器反射材の製造に最適な材料です。

タングステンチタン合金(WTi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

タングステンチタン合金(WTi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

手頃な価格の実験室用タングステン チタン合金 (WTi) 材料をご覧ください。当社の専門知識により、さまざまな純度、形状、サイズのカスタム材料を製造することができます。幅広いスパッタリング ターゲット、パウダーなどからお選びいただけます。

窒化チタン(TiN)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

窒化チタン(TiN)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室向けに手頃な価格の窒化チタン (TiN) 材料をお探しですか?当社の専門知識は、お客様の固有のニーズを満たすために、さまざまな形状やサイズの特注素材を製造することにあります。スパッタリングターゲットやコーティングなどの仕様・サイズを豊富に取り揃えております。

作業台 800 ミリメートル * 800 ミリメートルダイヤモンド単線円形小型切断機

作業台 800 ミリメートル * 800 ミリメートルダイヤモンド単線円形小型切断機

ダイヤモンドワイヤー切断機は、主にセラミックス、結晶、ガラス、金属、岩石、熱電材料、赤外線光学材料、複合材料、生物医学材料およびその他の材料分析サンプルの精密切断に使用されます。特に厚さ0.2mmまでの極薄板の精密切断に適しています。

赤外線シリコン/高抵抗シリコン/単結晶シリコンレンズ

赤外線シリコン/高抵抗シリコン/単結晶シリコンレンズ

シリコン (Si) は、約 1 μm ~ 6 μm の近赤外 (NIR) 範囲での用途に最も耐久性のある鉱物材料および光学材料の 1 つとして広く知られています。

高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズを満たす高品質のタングステン (W) 材料を手頃な価格で見つけてください。カスタマイズされたスパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などの純度、形状、サイズを提供します。

インジウム(II)セレン化物(InSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

インジウム(II)セレン化物(InSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室向けに手頃な価格で高品質のインジウム(II)セレン化物材料をお探しですか?弊社のカスタマイズ可能な InSe 製品には、お客様固有のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズが用意されています。さまざまなスパッタリング ターゲット、コーティング材料、粉末などからお選びいただけます。

高純度インジウムスズ酸化物(ITO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度インジウムスズ酸化物(ITO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室のニーズに合わせた高品質の酸化インジウムスズ (ITO) スパッタリング ターゲットを手頃な価格で入手してください。さまざまな形状やサイズのカスタマイズされたオプションは、お客様固有の要件に応えます。今すぐ当社の製品ラインナップをご覧ください。

高純度シリコン(Si)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

高純度シリコン(Si)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

研究室用の高品質シリコン (Si) 材料をお探しですか?これ以上探さない!当社のカスタム生産されたシリコン (Si) 材料には、お客様固有の要件に合わせてさまざまな純度、形状、サイズが用意されています。スパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどの当社のセレクションをご覧ください。今すぐ注文!


メッセージを残す