CVDダイヤモンドコーティングの厚さは、用途や成膜プロセスの条件によって大きく異なります。
CVDダイヤモンドコーティングの厚さは？(4つのキーファクター）
1.初期の膜厚と限界
ダイヤモンド膜の研究の初期段階では、コーティングはかなり厚く、しばしば1マイクロメートルを超えていました。
これは主に、不適切なシーディングと核形成技術によるものでした。
また、前処理や核生成促進法に関する理解不足も、コーティングを厚くする必要性の一因となった。
2.コーティングの進歩と薄膜化
研究が進むにつれて、ダイヤモンド薄膜の合成に大きな改良が加えられた。
これらの進歩により、膜厚を10ナノメートル程度まで薄くすることが可能になりました。
しかし、非ダイヤモンド基板上に連続コーティングを行うには、通常、最低100ナノメートルの膜厚が必要です。
これは、非ダイヤモンド基板上のダイヤモンドの核生成密度が低いことと、ダイヤモンド膜の3次元成長パターン（Volmer-Weberモデル）によるものである。
3.核生成の強化
核生成密度の低さという課題に対処するため、非ダイヤモンド基板上のダイヤモンド膜の核生成を促進する様々な前処理が開発されてきた。
これらの処理は、より薄く、ピンホールのないコーティングを実現するために極めて重要である。
様々な分野の科学者の学際的な協力が、これらの進歩に役立っている。
4.特定の用途と膜厚
CVDダイヤモンドコーティングエンドミルのような特定の用途では、一般的なコーティングの厚さは、より特殊で標準化されています。
この場合、膜厚は8～10ミクロンです。
この厚さは、強固なダイヤモンド層の必要性と、工具の機能および製造上の制約という実用的な考慮事項のバランスを取るために選択されます。
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