KinTek サンプル前処理装置には、サンプルの粉砕、粉砕、ふるい分け装置、油圧プレス装置には手動プレス、電動プレス、静水圧プレス、ホットプレス、プレス濾過機が含まれます。
KinTek は、蒸着材料、ターゲット、金属、電気化学部品に加え、粉末、ペレット、ワイヤ、ストリップ、ホイル、プレートなどを含む、ラボ用消耗品や材料を幅広く提供しています。
KinTek 生化学装置は、ロータリーエバポレーター、ガラスおよびステンレス鋼の反応器、蒸留システム、循環ヒーターおよびチラー、真空装置で構成されています。
ホウ化アルミニウム(AlB2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AlB2
炭化チタン(TiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiC
炭化ホウ素(BC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-BC
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SiC
チタン酸リチウム(Li2TiO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Li2TiO3
タンタル酸リチウム(LiTaO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-LiTaO3
硫化アンチモン(Sb2S3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Sb2S3
インジウムセレン(In2Se3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-In2Se3
インジウム(II)セレン化物(InSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-InSe
チタン酸リチウム(LiTiO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-IiTiO3
コバルト酸リチウム(LiCoO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-LiCoO2
チタン酸バリウム(BaTiO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-BaTiO3
フッ化ランタン(LaF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-LaF3
フッ化ナトリウム(NaF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-NaF
フッ化カルシウム(CaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CaF2
フッ化バリウム(BaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-BaF2
フッ化マグネシウム(MgF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MgF2
フッ化カリウム(KF)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-KF
フッ化セリウム(CeF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CeF3
フッ化ストロンチウム(SrF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SrF2
フッ化ネオジム(NdF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-NdF3
フッ化ディスプロシウム(DyF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-DyF3
フッ化サマリウム(SmF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SmF3
フッ化イッテルビウム(YbF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-YbF3
フッ化イットリウム(YF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-YF3
フッ化エルビウム(ErF3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ErF3
セレン化亜鉛(ZnSe)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZnSe
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
温間静水圧プレス(WIP)、その技術、用途、材料加工における利点についての包括的なガイドに飛び込んでください。WIPがどのように材料特性を向上させるか、また高度な製造におけるWIPの役割をご覧ください。
詳細なガイドで雰囲気炉の世界を探求してください。雰囲気炉の種類、冶金学およびそれ以外の分野での用途、精密な材料熱処理にもたらす利点についてご覧ください。
様々な産業における石英電解セルの詳細な仕組み、用途、利点をご覧ください。これらのセルがどのように精密な化学反応を促進するのか、また高純度金属製造におけるその役割について学びましょう。
ハンドヘルドゲージを使った膜厚測定のベストプラクティスと技術をご覧ください。電気メッキ、自動車塗装、粉体塗装に最適です。
炭化ケイ素スティックを取り付ける際の注意事項。
ふるい分けの科学的原理について、粒径に基づく粒子の分離プロセス、試験室用試験ふるいの種類などをご紹介します。ふるい分けがさまざまな産業にどのような影響を与えるか、また粒度分布測定の精度について学びます。
スパークプラズマ焼結炉(SPS)の世界をご覧ください。この包括的なガイドでは、その利点や用途からプロセスや設備に至るまで、すべてを網羅しています。SPS炉がお客様の焼結作業にどのような革命をもたらすかをご覧ください。
光学石英プレートの世界に入り込み、その卓越した特性、光学、エレクトロニクスなどの産業における多様な用途を探求してください。低熱膨張、高温耐性、正確な光学的透明度など、その利点をご覧ください。
加熱式ラボ プレスの世界を探索し、その種類、用途、主な機能、安全対策、メンテナンスのヒントを詳しく調べてください。これらの多用途ツールがさまざまな業界の研究室にどのように力を与えているかをご覧ください。
光学石英プレートの多様性を発見し、様々な産業における用途、主要仕様、ガラスとの差別化要因を探る。紫外線透過、精密光学など、その用途について理解を深めてください。
優れた紫外線透過率、熱安定性、レンズ、照明器具、半導体製造への使用など、光学石英プレートの驚くべき特性と多様な用途をご覧ください。
蛍光X線分析は、研究者や科学者がさまざまな物質の元素組成を測定するために使用する強力な技術です。蛍光X線分析で最も重要なステップの1つは、分析用のサンプルの前処理で、多くの場合、粉末サンプルからペレットを作成します。
冷間静水圧プレス (CIP) と熱間静水圧プレス (HIP) は、高密度で高品質の金属部品を製造するために使用される 2 つの粉末冶金技術です。
温間等方圧プレス (WIP) 装置は、温間等方圧ラミネーターとも呼ばれ、等方圧プレスと発熱体を組み合わせた最先端の技術です。温水などを用いて粉末製品に全方向から均一な圧力を加えます。このプロセスには、ジャケット型として柔軟な材料を使用し、圧力媒体として油圧を使用して、粉末材料を成形およびプレスすることが含まれます。
熱間静水圧プレス(HIP)は、高温高圧で材料を高密度化するために使用される技術です。このプロセスでは、材料を密閉容器に入れ、不活性ガスで加圧し、高温に加熱します。
静水圧プレスは、さまざまな業界で広く使用されている多用途の製造プロセスです。均一な密度と形状を達成するために、材料に全方向から均等な圧力をかけることが含まれます。静水圧プレスには、複雑な形状の製造能力、材料特性の均一性、高精度など、多くの利点があります。この包括的なガイドでは、冷間プレス、温間プレス、ホットプレスなど、さまざまなタイプの静水圧プレスについて詳しく説明します。それぞれのタイプのプロセス、特徴、用途を検討し、この重要な製造技術を徹底的に理解していただきます。それでは、飛び込んでみましょう!
蛍光 X 線 (XRF) 分析は、さまざまな業界で粉末の分析に使用される一般的な技術です。 XRF 分析用の粉末サンプルを準備する場合、プレストパウダー法とルースパウダー法という 2 つの主な方法があります。プレストパウダー法ではサンプルをペレットまたはディスクに圧縮しますが、ルースパウダー法では単にサンプルをペレットまたはディスクに置くだけです。カップや容器。各方法には長所と短所があり、方法の選択は分析の特定の要件によって異なります。
ロータリーエバポレーターとも呼ばれるロータリーエバポレーターは、サンプルから溶媒を除去するために一般的に使用される実験装置です。サンプル フラスコを回転させて溶媒の薄膜を作成し、蒸発させます。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を特定の形状またはサイズに圧縮するために使用されるプロセスです。この方法では、粉末を液体媒体中で通常 100 ~ 200 MPa の高圧にさらします。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を充填した容器に全方向から均一な圧力を加える粉末圧縮技術です。