薄膜は通常、金属、酸化物、化合物などの材料から作られ、それぞれが異なる用途に適した特定の特性を持つように選択される。金属はその優れた熱伝導性と電気伝導性のためにしばしば使用され、酸化物は保護を提供し、化合物は特定の所望の特性を有するように調整することができる。
薄膜中の金属：
金属はその優れた電気伝導性と熱伝導性により、薄膜蒸着によく使用される。例えば、金や銀は、ミラーや反射防止コーティングなどの光学用途によく使用されます。これらの金属は反射率が高く、表面の光学特性を高めるのに理想的です。金属薄膜の成膜プロセスは、ターゲット材料から金属原子を射出し、基板上に堆積させるスパッタリングなどの技術によって達成することができる。薄膜中の酸化物：
酸化物は、主にその保護性のために薄膜用途に選ばれる。湿気や化学物質などの環境要因に対するバリアを作るために使用され、これは電子機器や航空宇宙などの用途で非常に重要です。例えば、酸化アルミニウムは、腐食を防ぎ、デバイスの寿命を向上させるために、マイクロエレクトロニクスデバイスのバリア層としてよく使用されます。
薄膜中の化合物
薄膜に使用される化合物は、純粋な金属や酸化物ではなかなか得られない特定の特性を示すように設計することができる。例えば、ガリウムヒ素のような半導体化合物は、そのユニークな電子特性により、LEDや太陽電池の製造に使用されています。これらの化合物は、化学気相成長法を用いて成膜することができ、化学反応によって基板上にその場で化合物が形成される。
応用と技術
