真空と高真空の違いを理解するには、さまざまな真空レベルの定義と用途を調べる必要がある。高真空（HV）、超高真空（UHV）、極高真空（XHV）などである。
真空の質は、ガス密度またはガス圧力の減少の程度によって決定される。
低真空と中真空は産業用途で一般的に使用される。
高真空とそれ以上の真空は、特殊な実験室や研究用途に極めて重要である。
4つのポイントを解説真空と高真空の違いとは？
1.真空の定義と圧力範囲
低真空： 通常1～0.03バール（100,000～3,000Pa）。
中真空： 一般的に低真空と高真空の中間と理解されている。
高真空（HV）： 10^-7～10^-3mbar（0.1Pa～10^-7Pa）の圧力と定義される。
超高真空（UHV）： 10^-7～10^-12 mbarの圧力。
極高真空（XHV）： 10^-12 mbar以下の圧力。
2.異なる真空度におけるガス源
低・中真空： 主に「バルク」または元のガスの影響を受ける。
高真空以上： 表面ガスの脱離によるアウトガスによって支配される。
極高真空（XHV）： 主にチャンバー壁や他の材料からのガス透過の影響を受ける。
3.高真空達成の課題
材料の選択： 高真空にさらされる材料は、アウトガスや蒸気圧の問題を防ぐために慎重に選ばなければならない。
表面処理： 吸着ガスを除去するために、表面を高温で焼く必要がある場合が多い。
4.さまざまな真空レベルの用途
低真空： 溶剤回収、掃除機、白熱電球などの用途に使用される。
中真空から高真空： 有機物の抽出、真空炉、負圧換気などに使用。
高真空： 半導体産業、整理整頓室、各種研究用途に不可欠。
超高真空（UHV）： CERNやKATRINのような高エネルギー物理学や原子力研究で使用される。
極高真空（XHV）： 宇宙空間、特に静止軌道衛星のような環境に関連する。
5.真空の測定と品質
真空の質： 気体の密度または圧力の減少によって記述される。
測定単位： 一般的にはパスカル（Pa）またはミリバール（mbar）で測定される。
要約すると、真空と高真空の違いは、圧力範囲とそのレベルを達成・維持するために必要な方法にあります。
コンタミネーションを防ぎ、正確な実験条件を確保するために極めて低いガス密度が必要とされる高度な研究や産業用途では、高真空やそれ以上の真空度が不可欠です。
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