蒸発メッキ、スパッタリングメッキ、イオンプレーティング技術、その原理、種類、特徴を詳細に比較。
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この記事では、真空蒸着装置におけるタンタルの役割について、その特性、製造上の課題、OLEDスクリーン製造のような産業における重要な用途に焦点を当てて説明する。
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この記事では、蒸着、スパッタリング、イオンプレーティングを中心に、さまざまな真空コーティング技術を掘り下げ、その原理、利点、用途について詳しく説明する。
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この記事では、酸化物セラミックスの概念、分類、多様な用途について掘り下げ、さまざまなハイテク分野におけるその重要性を強調する。
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様々な複合セラミックスにおけるh-BNの役割を探求し、その特性と応用に焦点を当てる。
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真空コーティングプロセスにおける蒸発ボート、その材料、配置、温度制御、腐食問題について詳しく解説。
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フィラメント、るつぼ、蒸発ボートなど、薄膜蒸着に使用されるさまざまな蒸発源を探る。
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高純度金属の定義、調製技術、用途について詳しく解説。
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材料研究における平面および回転スパッタリングターゲットの特性、利点、欠点を分析。
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平面シリコンターゲットと回転シリコンターゲットの長所と短所を、薄膜蒸着技術における特性や応用シーンに焦点を当てて徹底比較。
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深部共晶溶媒とその利点に焦点を当て、PVモジュールリサイクルにおけるグリーン溶媒へのシフトを探る。
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This article discusses the methods and processes for recovering high-purity indium from ITO target waste, including chemical and electrolytic purification techniques.
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半導体製造における貴金属ターゲットの使用、準備、リサイクルについて解説。
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研磨、高純度金属、様々なリサイクル方法を中心に、新しいレアアース材料とリサイクル技術を探る。
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PVDスパッタリングターゲットの品質と均一性の向上における熱間静水圧プレスの役割について、製造技術と利点に焦点を当てながら解説。
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スパッタリングターゲット製造における粉末冶金の詳細なプロセスと応用。
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AIチップのアップグレードが新しい金属材料によって促進され、コンピューティングパワーと半導体製造にどのような影響を与えるかを探る。
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装飾コーティングに使用される様々なスパッタリングターゲットについて、そのユニークな特性と用途を概説する。
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この記事では、さまざまな産業におけるマグネトロンスパッタリングターゲットの分類、用途、原理について詳しく説明する。
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マグネトロンスパッタリングターゲット、その要件、原理、種類、性能要因について詳しく解説。
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本稿では、集積回路製造における各種スパッタリングターゲットの高純度要件と用途について、異なる技術ノードで使用される金属と合金を中心に論じる。
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スパッタリングターゲットの鋳造プロセスについて、適切な材料、利点、詳細なプロセス手順を含む包括的なガイド。
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スパッタリングターゲットの概要、種類、純度、密度、粒径などの主要パラメータ。
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プロセスパラメータ、ターゲットの品質、装置の問題など、スパッタリングターゲットのオレンジピールにつながる要因を探る。
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参照電極、その使用方法、メンテナンス、チェック方法、再生、保管、アプリケーションに関する詳細なガイド。
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グリマーキュリー電極について、その組成、特徴、分析化学における応用について詳しく解説。
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電気化学システム、特にリチウムイオン電池で使用される参照電極の主な要件と種類の概要。
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電気化学研究における参照電極の使用、校正、メンテナンスに関する詳細なガイド。
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リチウム電池の基準電極の設計、特徴、用途を詳細に分析。
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電気化学システムにおける作用電極、対極、参照電極の役割と特性の概要。
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