真空蒸着は主に2つの目的で使用される。マイクロエレクトロニクスでは薄膜や部品の作成に、廃水処理では汚染物質から水を分離するために使用される。
マイクロエレクトロニクスでは、真空蒸着は固体材料を特定の基板に蒸着させて薄膜を形成するために利用される。これらの薄膜は、高精度で低い温度係数を持つ能動部品、デバイス接点、金属相互接続、薄膜抵抗器の製造など、さまざまな機能を果たす。さらに、絶縁性の誘電体やフィルム・コンデンサーの電極を作るのにも使われる。このプロセスは、電子デバイスの製造において非常に重要であり、その性能と信頼性を高めている。
廃水処理では、金属成形・仕上げ、食品・飲料、製薬、化学など、さまざまな産業で廃水の処理とリサイクルに真空蒸発が採用されている。このプロセスでは、廃水を沸騰室に送り込み、水分子が蒸気に変わるまで加熱します。沸点の高い汚染物質は残され、蒸気は熱交換器で回収、冷却、凝縮される。真空条件下で運転することにより、廃水をより低い温度で沸騰させることができ、エネルギー効率とコスト効率がより高いプロセスとなる。この方法は、ゼロ・リキッド・ディスチャージ（ZLD）の達成にも有益であり、蒸留水を回収してプロセス水として再利用することで、工場が排出義務を果たし、収入を得る可能性もある。さらに、貴金属や医薬品有効成分（API）のような貴重な物質も、このプロセスで回収し、リサイクルすることができる。
全体として、真空蒸発は工業と製造の両方のプロセスで使用される多用途で効率的な技術であり、コスト、効率、環境への影響の面で大きな利点をもたらします。
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