単段真空ポンプにはポンプ室が1つありますが、2段真空ポンプには直列に接続されたポンプ室が2つあります。両者の主な違いは、圧縮比と達成できる真空度です。
一段真空ポンプでは、ポンプ室は直接大気に排気される。大まかな真空レベルまたは低真空レベルを達成でき、通常は約1ミリバールの圧力までです。このタイプのポンプは、一般的な工業プロセスなど、高真空レベルを必要としない用途によく使用されます。
一方、2段式真空ポンプは、2組のローターとベーンを使用します。低真空ステージとして知られる第1ステージは、プロセスガスを取り込み、高真空ステージとして知られる第2ステージに移送します。高真空ステージはガスを大気圧まで圧縮し、より良い真空レベルを実現します。二段真空ポンプは、通常10^-3から10^-4ミリバールの範囲で、より高い真空レベルを達成することができます。
二段式真空ポンプは、超高真空（UHV）レベルの製造など、より高い真空レベルが必要な産業用途で好まれます。UHV真空レベルは、約100ナノパスカル（10^-7パスカル、10^-9mbar、～10^-9torr）より低い圧力を特徴とする。これらの真空レベルは通常、半導体製造、研究所、真空コーティングなどの産業で必要とされます。
要約すると、1段式真空ポンプと2段式真空ポンプの違いは、ポンプ室の数とその結果達成できる真空レベルにあります。1段ポンプはチャンバーが1つで、大まかな真空を達成することができますが、2段ポンプはチャンバーが2つあり、特に超高真空領域でより高い真空レベルを達成することができます。
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