製品 ラボ用消耗品と材料 実験用資料 硫化モリブデン(MoS2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
硫化モリブデン(MoS2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

実験用資料

硫化モリブデン(MoS2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒

商品番号 : LM-MoS2

価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ


化学式
MoS2
純度
4N
ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
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当社は実験室用に硫化モリブデン (MoS2) 材料を手頃な価格で提供しています。当社の専門分野は、お客様の特定のニーズに応えるために、さまざまな純度、形状、サイズの硫化モリブデン (MoS2) 材料の製造とカスタマイズにあります。

スパッタリングターゲット(円形、角形、管状、不定形)、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティングパウダー、ナノメートルパウダー、線材、インゴット、ブロックなど、幅広い仕様・サイズを取り揃えております。とりわけ。

詳細

硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット
硫化モリブデン (MoS2) スパッタリング ターゲット

硫化モリブデン(MoS2)について

硫化モリブデン (MoS2) または二硫化モリブデンは、硫酸塩用途に使用できる適度に溶解性のモリブデン源です。硫酸塩化合物は、硫酸の一方または両方の水素を金属で置換することによって形成されます。フッ化物や酸化物とは異なり、ほとんどの金属硫酸塩化合物は水に可溶であるため、水処理の目的に最適です。

硫化モリブデンの有機金属形態は、有機溶液に可溶であり、場合によっては水溶液と有機溶液の両方に可溶です。金属イオンは、懸濁またはコーティングされたナノ粒子を使用して分散させたり、スパッタリング ターゲットや蒸着材料を使用して蒸着したりすることもできます。このような用途は、太陽エネルギー材料や燃料電池に見られます。

硫化モリブデンはほとんどの量で容易に入手でき、高純度の組成物により光学品質と科学標準としての有用性の両方が向上します。さらに、特定の用途では、別の高表面積形態として、ナノスケールの元素粉末および懸濁液が考慮される場合があります。

成分の品質管理

原料組成分析
ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。

非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。
金属組織探傷分析
対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。

金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。
外観・寸法検査
製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。

製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。

従来のスパッタリングターゲットサイズ

準備工程
熱間静水圧プレス、真空溶解など
スパッタリングターゲットの形状
平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
円形スパッタリングターゲットサイズ
直径:25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ:3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。
角型スパッタリングターゲットサイズ
50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です

利用可能な金属フォーム

メタルフォームの詳細

当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。

  • 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
  • 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
  • マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
  • マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
  • 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
  • ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
  • その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本

KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 )。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。

包装

当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。

この製品に関するよくある質問をもっと見る

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Highly satisfied with the quality of the Molybdenum Sulfide (MoS2) sputtering target. It arrived within three days, which was quite impressive.

Imelda Hamilton

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Ainsley Morrison

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Verity Shaw

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Reece Campbell

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Maxwell Edwards

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Eleanor Carter

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Benjamin Harris

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Isabella Johnson

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