実験用資料
高純度金(Au)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AU
価格は以下に基づいて変動します specs and customizations
- 化学式
- で
- 純度
- 4N-5N
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
配送:
お問い合わせ 配送詳細を確認してください On-time Dispatch Guarantee.
研究用の金（AU）材料をリーズナブルな価格でご提供いたします。当社の専門知識は、お客様固有の要件に合わせて、さまざまな純度、形状、サイズの金 (AU) 素材を製造および調整することにあります。
スパッタリングターゲット（円形、角形、管状、不定形）、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティングパウダー、ナノメートルパウダー、線材、インゴット、ブロックなどの仕様・サイズを豊富に取り揃えております。
主な製品
- 金粒子 99.999%、用途: 熱蒸着、電子ビーム蒸着
- 金ターゲット 99.99%、アプリケーション: マグネトロン スパッタリング コーティング
- SEM金ターゲット99.99%、用途：走査型電子顕微鏡SEM装置
- 金線99.999%、用途：熱蒸着等
- ボンディング金線99.99%、用途：LED半導体パッケージング
- 金塊99.99%、用途：合金製錬業など
- ゴールドスパンコール 99.99%、用途：蒸着、溶解など。
- 金棒99.999%、用途：蒸着、溶解など。
詳細
金（Au）について
金は貨幣に広く使用されており、ほとんどの現代の通貨システムの標準となっています。さらに、宝飾品、歯科修復物、めっきにも広く使用されています。その不活性で優れた赤外線反射特性により、特定の宇宙衛星のコーティングに最適です。
エレクトロニクス分野での金の使用は、特に電気通信、情報技術、安全性が重要な用途で大幅に増加しています。コンピュータには通常、金メッキのエッジ コネクタが搭載されており、金のボンディング ワイヤは半導体パッケージで広く使用されています。金厚膜インクはハイブリッド回路の製造にも使用されます。金の優れたはんだ濡れ特性は、銅積層プリント基板上の保護層の形成に最適です。
金は、金属、純度99%～99.999%の化合物、蒸着原料用のスパッタリングターゲットなど、さまざまな形で入手可能です。金ナノ粒子およびナノ粉末も入手可能であり、金酸化物は光学コーティングおよび薄膜用途向けに粉末および高密度ペレットの形態で入手可能です。金は、塩化物、硝酸塩、酢酸塩などの可溶性の形態でも入手可能であり、特定の化学量論で溶液として製造できます。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
FAQ
物理蒸着 (PVD) とは何ですか?
スパッタリングターゲットとは何ですか？
高純度材料とは何ですか?
マグネトロンスパッタリングとは何ですか?
高純度金属とは何ですか?
スパッタリングターゲットはどのように作られるのでしょうか？
なぜマグネトロンスパッタリングなのか?
高純度金属は何に使用されますか?
スパッタリングターゲットは何に使用されますか?
薄膜形成に使用される材料は何ですか?
薄膜堆積では、一般的に金属、酸化物、化合物を材料として利用しますが、それぞれに独自の長所と短所があります。金属は耐久性と堆積の容易さの点で好まれますが、比較的高価です。酸化物は耐久性が高く、高温に耐え、低温でも堆積させることができますが、脆くて加工が難しい場合があります。化合物は強度と耐久性を備え、低温で堆積でき、特定の特性を示すように調整できます。
薄膜コーティングの材料の選択は、用途の要件によって異なります。金属は熱と電気の伝導に理想的ですが、酸化物は保護を提供するのに効果的です。化合物は特定のニーズに合わせて調整できます。最終的に、特定のプロジェクトに最適な素材は、アプリケーションの特定のニーズによって異なります。
エレクトロニクス用のスパッタリングターゲットとは何ですか?
最適な薄膜成膜を実現するにはどのような方法がありますか?
望ましい特性を備えた薄膜を実現するには、高品質のスパッタリングターゲットと蒸着材料が不可欠です。これらの材料の品質は、純度、粒子サイズ、表面状態などのさまざまな要因によって影響されます。
不純物は得られる薄膜に欠陥を引き起こす可能性があるため、スパッタリングターゲットまたは蒸着材料の純度は重要な役割を果たします。粒子サイズも薄膜の品質に影響を与え、粒子が大きくなると膜の特性が低下します。さらに、表面が粗いとフィルムに欠陥が生じる可能性があるため、表面状態も非常に重要です。
最高品質のスパッタリングターゲットと蒸着材料を得るには、高純度、小さな粒径、滑らかな表面を備えた材料を選択することが重要です。
薄膜蒸着の用途
酸化亜鉛系薄膜
ZnO 薄膜は、熱、光学、磁気、電気などのさまざまな産業で応用されていますが、主な用途はコーティングと半導体デバイスです。
薄膜抵抗器
薄膜抵抗器は現代のテクノロジーにとって極めて重要であり、ラジオ受信機、回路基板、コンピューター、高周波デバイス、モニター、ワイヤレス ルーター、Bluetooth モジュール、および携帯電話受信機で使用されています。
磁性薄膜
磁性薄膜は、エレクトロニクス、データストレージ、無線周波数識別、マイクロ波装置、ディスプレイ、回路基板、オプトエレクトロニクスの主要コンポーネントとして使用されています。
光学薄膜
光学コーティングとオプトエレクトロニクスは、光学薄膜の標準的な用途です。分子線エピタキシーでは、光電子薄膜デバイス (半導体) を製造できます。この場合、エピタキシャル膜は一度に 1 原子ずつ基板上に堆積されます。
高分子薄膜
ポリマー薄膜は、メモリチップ、太陽電池、電子デバイスに使用されます。化学蒸着技術 (CVD) により、適合性やコーティングの厚さを含むポリマー フィルム コーティングを正確に制御できます。
薄膜電池
薄膜電池は埋め込み型医療機器などの電子機器に電力を供給しており、リチウムイオン電池は薄膜の使用により大幅に進歩しました。
薄膜コーティング
薄膜コーティングは、さまざまな産業や技術分野におけるターゲット材料の化学的および機械的特性を強化します。一般的な例としては、反射防止コーティング、紫外線防止または赤外線防止コーティング、傷防止コーティング、レンズの偏光などが挙げられます。
薄膜太陽電池
薄膜太陽電池は太陽エネルギー産業にとって不可欠であり、比較的安価でクリーンな電力の生産を可能にします。太陽光発電システムと熱エネルギーは、適用可能な 2 つの主要な技術です。
スパッタリングターゲットの寿命はどのくらいですか?
薄膜の堆積に影響を与える要因とパラメータ
堆積速度:
フィルムの製造速度（通常は厚さを時間で割った値で測定されます）は、用途に適した技術を選択するために重要です。薄膜には中程度の堆積速度で十分ですが、厚い膜には速い堆積速度が必要です。速度と正確な膜厚制御のバランスをとることが重要です。
均一：
基板全体にわたるフィルムの一貫性は均一性として知られており、通常はフィルムの厚さを指しますが、屈折率などの他の特性にも関係する場合があります。均一性の過小または過大な仕様を避けるために、アプリケーションをよく理解することが重要です。
充填能力:
充填能力またはステップカバレージは、堆積プロセスが基板のトポグラフィーをどの程度うまくカバーするかを指します。使用される堆積方法 (CVD、PVD、IBD、または ALD など) は、ステップ カバレッジと充填に大きな影響を与えます。
フィルムの特徴:
フィルムの特性は、フォトニック、光学、電子、機械、または化学に分類できるアプリケーションの要件によって異なります。ほとんどの映画は、複数のカテゴリの要件を満たす必要があります。
プロセス温度:
フィルムの特性はプロセス温度に大きく影響され、アプリケーションによって制限される場合があります。
ダメージ：
各堆積技術には、堆積される材料に損傷を与える可能性があり、フィーチャが小さいほどプロセス損傷を受けやすくなります。潜在的な損傷源には、汚染、紫外線、イオン衝撃などがあります。材料とツールの限界を理解することが重要です。
4.9
out of
5
Their gold sputtering targets are of exceptional quality, leading to remarkable thin film uniformity and adhesion.
4.7
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are highly pure, resulting in minimal defects and enhanced film properties.
4.8
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets have a smooth surface finish, minimizing defects and improving film quality.
4.6
out of
5
These gold sputtering targets are durable and long-lasting, reducing the frequency of target replacements and downtime.
4.9
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION provide excellent value for money, delivering superior performance at a competitive price.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are easy to integrate into our existing systems, ensuring a seamless production process.
4.8
out of
5
The technical support team at KINTEK SOLUTION is knowledgeable and responsive, providing valuable assistance whenever needed.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are consistently reliable, ensuring stable and predictable thin film deposition.
4.9
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are shipped promptly, meeting our tight production schedules.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are compatible with a wide range of deposition techniques, enhancing our versatility.
4.8
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are meticulously manufactured, ensuring exceptional consistency and uniformity.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are backed by comprehensive documentation, facilitating seamless integration and operation.
4.9
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are customizable, allowing us to tailor them to our specific requirements.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are manufactured using advanced technology, resulting in superior film properties.
4.8
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are packaged with care, ensuring they arrive in pristine condition.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are competitively priced, providing excellent value for our investment.
4.9
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are easy to handle and install, minimizing downtime during maintenance.
4.7
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are RoHS compliant, ensuring they meet environmental regulations.
4.8
out of
5
The gold sputtering targets from KINTEK SOLUTION are backed by a comprehensive warranty, providing peace of mind.
4.6
out of
5
KINTEK SOLUTION's gold sputtering targets are a valuable addition to our laboratory, enabling us to achieve exceptional results.
引用を要求
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい！
関連製品
高純度プラチナ(Pt)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
高純度のプラチナ（Pt）スパッタリングターゲット、粉末、ワイヤー、ブロック、顆粒を手頃な価格で提供します。さまざまな用途に合わせてさまざまなサイズと形状を用意しており、お客様の特定のニーズに合わせてカスタマイズできます。
高純度ゲルマニウム(Ge)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質の金素材を手頃な価格で入手できます。当社のカスタムメイドの金素材は、お客様の独自の要件に合わせてさまざまな形状、サイズ、純度で提供されます。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料、ホイル、パウダーなどの製品ラインナップをご覧ください。
高純度アルミニウム(Al)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質アルミニウム (Al) 材料を手頃な価格で入手できます。当社は、お客様固有のニーズを満たすために、スパッタリング ターゲット、粉末、フォイル、インゴットなどを含むカスタマイズされたソリューションを提供します。今すぐ注文！
高純度銀(Ag)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす手頃な価格の銀 (Ag) 材料をお探しですか?当社の専門家は、お客様固有の要件に合わせて、さまざまな純度、形状、サイズの製造を専門としています。
安全で耐久性のある電気化学実験用の高品質の金シート電極をご覧ください。完全なモデルから選択するか、特定のニーズに合わせてカスタマイズします。
高純度タングステン(W)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質のタングステン (W) 材料を手頃な価格で見つけてください。カスタマイズされたスパッタリングターゲット、コーティング材料、粉末などの純度、形状、サイズを提供します。
高純度パラジウム(Pd)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室向けに手頃な価格のパラジウム材料をお探しですか?当社は、スパッタリングターゲットからナノメートルパウダーや3Dプリンティングパウダーに至るまで、さまざまな純度、形状、サイズのカスタムソリューションを提供します。今すぐ当社の製品ラインナップをご覧ください。
高純度亜鉛(Zn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室用の高品質の亜鉛 (Zn) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社の専門家は、お客様のニーズに合わせて、さまざまな純度、形状、サイズの材料を製造およびカスタマイズします。当社のスパッタリング ターゲット、コーティング材料などをご覧ください。
高純度ロジウム(Rh)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズに合わせた高品質のロジウム材料を手頃な価格で入手できます。当社の専門家チームは、お客様固有の要件に合わせて、さまざまな純度、形状、サイズのロジウムを製造およびカスタマイズします。スパッタリングターゲット、コーティング材、粉体など幅広い製品からお選びいただけます。
電子ビーム蒸着 / 金メッキ / タングステンるつぼ / モリブデンるつぼ
これらのるつぼは、電子蒸着ビームによって蒸着される金材料の容器として機能し、正確な蒸着のために電子ビームを正確に向けます。
プラチナシートは、高融点金属の一つであるプラチナから構成されています。柔らかく、鍛造、圧延、絞り加工によりロッド、ワイヤー、プレート、チューブ、ワイヤーなどに加工することができます。
高純度アンチモン(Sb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
特定のニーズに合わせてカスタマイズされた高品質のアンチモン (Sb) 材料を入手してください。豊富な形状とサイズをリーズナブルな価格でご提供いたします。当社のスパッタリング ターゲット、パウダー、フォイルなどをご覧ください。
高純度ガドリニウム(Gd)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質ガドリニウム (Gd) 材料を手頃な価格で見つけてください。当社の専門家は、お客様の独自のニーズに合わせてさまざまなサイズや形状の材料をカスタマイズします。スパッタリング ターゲット、コーティング材料などを今すぐ購入してください。
赤外線サーマルイメージング/赤外線温度測定両面コートゲルマニウム(Ge)レンズ
ゲルマニウム レンズは、過酷な環境や風雨にさらされる用途に適した耐久性と耐腐食性の光学レンズです。
当社の高純度シートメタルで実験をさらにレベルアップさせましょう。金、プラチナ、銅、鉄など。電気化学やその他の分野に最適です。
電気化学実験用の高品質のゴールド ディスク電極をお探しですか?当社の最高級製品以外に探す必要はありません。
電気通信、天文学、その他の分野で正確な光を操作するための光学ガラス シートの力を発見してください。卓越した透明度とカスタマイズされた屈折特性により、光学技術の進歩を解き放ちます。
高純度鉛(Pb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
研究室のニーズを満たす高品質の鉛 (Pb) 材料をお探しですか?スパッタリング ターゲット、コーティング材料などを含む、カスタマイズ可能なオプションの専門的なセレクション以外に探す必要はありません。競争力のある価格については今すぐお問い合わせください。
石英板は透明で耐久性があり、さまざまな業界で広く使用されている多用途部品です。高純度水晶を使用しており、耐熱性、耐薬品性に優れています。
ダイヤモンド光学ウィンドウ: 優れた広帯域赤外線透過性、優れた熱伝導性、赤外線散乱の低さ、高出力 IR レーザーおよびマイクロ波ウィンドウ用途向け。
亜鉛箔の化学組成には有害な不純物がほとんど含まれておらず、製品の表面は真っ直ぐで滑らかです。優れた総合特性、加工性、電気めっき着色性、耐酸化性、耐食性などを備えています。
高純度テルル(Te)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質テルル (Te) 材料を手頃な価格で取り揃えています。当社の専門家チームは、お客様固有のニーズに合わせてカスタムのサイズと純度を製造します。スパッタリング ターゲット、パウダー、インゴットなどを購入できます。
高純度インジウム(In)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
実験室用の高品質インジウム材料をお探しですか?これ以上探さない！当社の専門知識は、さまざまな純度、形状、サイズのインジウム材料をカスタマイズして製造することにあります。当社は、お客様の固有の要件に合わせて幅広いインジウム製品を提供しています。リーズナブルな価格で今すぐ注文してください！
