実験用資料
フッ化バリウム(BaF2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-BaF2
価格は以下に基づいて変動します 仕様とカスタマイズ
- 化学式
- BaF2
- 純度
- 4N
- 形
- ディスク/ワイヤー/ブロック/パウダー/プレート/カラムターゲット/ステップターゲット/カスタムメイド
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当社は実験室用のフッ化バリウム (BaF2) 材料を手頃な価格で提供できることをうれしく思います。当社の専門は、お客様の特定のニーズに合わせてさまざまな純度、形状、サイズのフッ化バリウム (BaF2) 材料を製造およびカスタマイズすることです。
円形、角形、円筒形、異形などのスパッタリングターゲットをはじめ、コーティング材、円柱、円錐、粒子、箔、粉末、3Dプリンティング用粉末、ナノメートル粉末、線材など、多様な仕様・サイズを取り揃えております。 、インゴット、ブロックなど。
詳細
フッ化バリウム(BaF2)について
フッ化バリウム (BaF2) は、希少鉱物フランクディクソナイトとして天然に存在する無機化合物です。化学式は BaF2 で、標準条件下では蛍石構造をとりますが、高圧下では PbCl2 構造をとります。 BaF2 は CaF2 とよく似た無色の固体で、水に耐性があり、水に溶けません。
ただし、約500 °C、湿気により BaF2 が腐食する可能性があります。湿気に長時間さらされると、真空 UV 範囲での透過率も低下する可能性があります。 BaF2 はフッ化カルシウムより耐水性が劣りますが、高エネルギー放射線に対してはすべての光学フッ化物の中で最も耐性があります。遠紫外線透過率が他のフッ化物に比べて低く、硬く熱衝撃に弱いため割れやすい。
BaF2 は水不溶性のバリウム源として、金属製造などの酸素に敏感な用途に使用されます。フッ化物化合物は、石油精製やエッチングから有機合成化学や医薬品の製造に至るまで、現在の技術や科学において多様な用途に使用されています。たとえば、2013 年にマックス プランク量子光学研究所の研究者らはフッ化マグネシウムを使用して、結晶微小共振器で作られた新しい中赤外光周波数コムを作成しました。これは分子分光法の進歩につながる可能性があります。フッ化物は、金属の合金化や光蒸着にも一般的に使用されます。
BaF2 は一般にほとんどの量が入手可能であり、光学品質と科学標準としての有用性の両方を向上させる超高純度および高純度の組成物に適しています。ナノスケールの元素粉末および懸濁液も、別の高表面積形態として考慮される場合があります。
成分の品質管理
- 原料組成分析
- ICPやGDMSなどの機器を使用して、金属不純物の含有量を検出および分析し、純度基準を満たしていることを確認します。
非金属不純物は、炭素分析装置、硫黄分析装置、窒素分析装置、酸素分析装置などの機器によって検出されます。 - 金属組織探傷分析
- 対象となる材料を探傷装置を用いて検査し、製品内部に欠陥や引け穴がないかを確認します。
金属組織検査を通じて、ターゲット材料の内部粒子構造を分析し、粒子が微細で緻密であることを確認します。 - 外観・寸法検査
- 製品の寸法は、図面への準拠を保証するためにマイクロメーターと精密ノギスを使用して測定されます。
製品の表面仕上げおよび清浄度は、表面清浄度計を使用して測定されます。
従来のスパッタリングターゲットサイズ
- 準備工程
- 熱間静水圧プレス、真空溶解など
- スパッタリングターゲットの形状
- 平面スパッタリングターゲット、マルチアークスパッタリングターゲット、ステップスパッタリングターゲット、特殊形状スパッタリングターゲット
- 円形スパッタリングターゲットサイズ
- 直径：25.4mm / 50mm / 50.8mm / 60mm / 76.2mm / 80mm / 100mm / 101.6mm / 152.4mm
厚さ：3mm / 4mm / 5mm / 6mm / 6.35mm
サイズはカスタマイズ可能です。 - 角型スパッタリングターゲットサイズ
- 50×50×3mm / 100×100×4mm / 300×300×5mm、サイズはカスタマイズ可能です
利用可能な金属フォーム
メタルフォームの詳細
当社は、周期表に記載されているほぼすべての金属を、幅広い形状と純度、および標準的なサイズと寸法で製造しています。サイズ、形状、表面積、組成など、特定のお客様のご要望に合わせてカスタムメイドの製品を製造することもできます。次のリストは、当社が提供するフォームのサンプルを示していますが、すべてを網羅しているわけではありません。研究室用消耗品が必要な場合は、直接お問い合わせの上、お見積りをご依頼ください。
- 平面/平面形状: ボード、フィルム、フォイル、マイクロフォイル、マイクロリーフ、紙、プレート、リボン、シート、ストリップ、テープ、ウェハー
- 予備成形形状: アノード、ボール、バンド、バー、ボート、ボルト、ブリケット、カソード、サークル、コイル、るつぼ、クリスタル、キューブ、カップ、シリンダー、ディスク、電極、ファイバー、フィラメント、フランジ、グリッド、レンズ、マンドレル、ナット、パーツ、プリズム、パック、リング、ロッド、シェイプ、シールド、スリーブ、スプリング、四角形、スパッタリング ターゲット、スティック、チューブ、ワッシャー、ウィンドウ、ワイヤー
- マイクロサイズ: ビーズ、ビット、カプセル、チップ、コイン、粉塵、フレーク、穀物、顆粒、微粉末、針、粒子、小石、ペレット、ピン、錠剤、粉末、削りくず、ショット、ナメクジ、球体、錠剤
- マクロサイズ: ビレット、チャンク、切断片、破片、インゴット、塊、ナゲット、ピース、パンチング、岩石、スクラップ、セグメント、旋削材
- 多孔質および半多孔質: 生地、フォーム、ガーゼ、ハニカム、メッシュ、スポンジ、ウール
- ナノスケール: ナノ粒子、ナノパウダー、ナノフォイル、ナノチューブ、ナノロッド、ナノプリズム
- その他: 濃縮物、インク、ペースト、沈殿物、残留物、サンプル、標本
KinTek は、純度範囲が 99.999% (5N)、99.9999% (6N)、99.99995% (6N5)、場合によっては最大 99.99999% (7N) の高純度および超高純度の材料の製造を専門としています。 ）。当社の材料は、UP/UHP、半導体、電子、蒸着、光ファイバー、MBE グレードなどの特定のグレードで利用できます。当社の高純度金属、酸化物、化合物は、ハイテク用途の厳しい要求を満たすように特別に作られており、薄膜堆積、半導体の結晶成長、およびナノマテリアルの合成のためのドーパントおよび前駆体材料としての使用に最適です。これらの材料は、高度なマイクロエレクトロニクス、太陽電池、燃料電池、光学材料、その他の最先端の用途に使用されています。
包装
当社では高純度原料を真空包装しており、各原料の特性に合わせた個別包装を行っております。たとえば、当社の Hf スパッタ ターゲットには、効率的な識別と品質管理を容易にするために外部でタグとラベルが付けられています。保管中や輸送中に発生する可能性のある損傷を防ぐために細心の注意を払っています。
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Received the sputtering target within 3 days of ordering, excellent service!
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Barium Fluoride (BaF2) Sputtering Target is the best sputtering target I've used. It is of great quality and has a long lifespan.
4.7
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