銅ニッケルインジウム合金(CuNiIn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CuNiIn
アルミニウム銅合金(AlCu)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AlCu
コバルトシリサイド(CoSi2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CoSi2
ジルコニウムシリコン合金(ZrSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZrSi
ニッケルシリコン合金(NiSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-NiSi
ジルコニウム銀合金(ZrAg)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZrAg
錫ビスマス銀合金(SnBiAg)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SnBiAg
クロムニッケル合金(CrNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CrNi
ニッケルアルミニウム合金(NiAl)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-NiAl
ニッケルニオブ合金(NiNb)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-NiNb
鉄ニッケル合金(FeNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-FeNi
マンガン・コバルト・ニッケル合金(MnCoNi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MnCoNi
窒化ホウ素(BN)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-BN
窒化アルミニウム(AlN)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AlN
窒化ケイ素(Si3N4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Si3N4
窒化チタン(TiN)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiN
窒化タンタル(TaN)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TaN
硫化亜鉛(ZnS)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZnS
硫化モリブデン(MoS2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MoS2
硫化スズ(SnS2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SnS2
硫化タングステン(WS2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-WS2
硫化カドミウム(CdS)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-CdS
炭化ホウ素(B4C)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-B4C
ハフニウムカーバイド(HfC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HfC
炭化タングステン(WC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-WC
炭化モリブデン(Mo2C)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Mo2C
ホウ化アルミニウム(AlB2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AlB2
炭化チタン(TiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiC
炭化ホウ素(BC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-BC
炭化ケイ素(SiC)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SiC
弊社の専門チームが 1 営業日以内にご返信いたします。 お気軽にお問い合わせ下さい!
高品質のスパッタリングターゲットの製造における熱間静水圧プレスの使用と、PVDスパッタリング技術の応用について解説。
この記事では、熱間静水圧プレスや高圧熱処理などの技術を中心に、PVDスパッタリングターゲットの製造と最適化について説明する。
太陽電池製造の様々な段階における等方性黒鉛の使用とその市場需要の概要。
スパークプラズマ焼結(SPS)炉の世界、その革新的な技術、そして材料科学における応用についてご紹介します。SPS 炉がいかに高速、効率、高精度で焼結プロセスに革命をもたらすかをご覧ください。
MoSi2発熱体を設置する際の注意事項
炭化ケイ素スティックを取り付ける際の注意事項。
ふるい分けの科学的原理について、粒径に基づく粒子の分離プロセス、試験室用試験ふるいの種類などをご紹介します。ふるい分けがさまざまな産業にどのような影響を与えるか、また粒度分布測定の精度について学びます。
航空宇宙、自動車、その他様々な産業におけるモリブデン真空炉の変革の可能性をご覧ください。その高度な機能、用途、高性能操業のための断熱技術についてご紹介します。
スパークプラズマ焼結炉(SPS)の世界をご覧ください。この包括的なガイドでは、その利点や用途からプロセスや設備に至るまで、すべてを網羅しています。SPS炉がお客様の焼結作業にどのような革命をもたらすかをご覧ください。
冷間静水圧プレス (CIP) と熱間静水圧プレス (HIP) は、高密度で高品質の金属部品を製造するために使用される 2 つの粉末冶金技術です。
熱間静水圧プレス(HIP)は、高温高圧で材料を高密度化するために使用される技術です。このプロセスでは、材料を密閉容器に入れ、不活性ガスで加圧し、高温に加熱します。
熱間静水圧プレス (HIP) は、セラミック材料の密度を高め、金属の気孔を減らす上で重要な役割を果たす強力な製造プロセスです。航空宇宙、粉末冶金、部品製造などのさまざまな業界で広く利用されています。
冷間静水圧プレス (CIP) サービスは、製品または冷間圧縮粉末を滅菌するために非常に高い圧力を利用します。 CIP は、複雑な形状を作成し、材料の最終密度を高めるのに特に効果的です。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を特定の形状またはサイズに圧縮するために使用されるプロセスです。この方法では、粉末を液体媒体中で通常 100 ~ 200 MPa の高圧にさらします。
ラボ用プレスは、製薬、材料科学、エレクトロニクスなどの幅広い業界の研究開発に不可欠なツールです。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を充填した容器に全方向から均一な圧力を加える粉末圧縮技術です。
冷間静水圧プレス (CIP) は、液体圧力を使用して粉末を圧縮することによって材料を加工する方法です。金型加工に似ており、パスカルの法則に基づいています。
温間静水圧プレス (WIP) は、材料の密度を高め、欠陥を減らすために使用される高圧技術です。これには、材料を高圧および高温にさらすと同時に、不活性ガスを適用して材料を均一に圧縮することが含まれます。
静水圧プレスは、高性能な素材や部品の製造に用いられるプロセスです。材料や部品の全面に均一な圧力を加えることで、密度が均一になり、機械的特性が向上します。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末、セラミック、金属を圧縮して高密度化するために使用されるプロセスです。このプロセスでは、高圧流体 (通常は水または油) を使用して、材料に全方向から均一な圧力を加えます。