スパッタリング収率は、物理的スパッタリング率とも呼ばれ、表面に入射する高エネルギー粒子1個当たりに表面から失われる原子の数を示す尺度である。スパッタ蒸着率に影響するため、スパッタ蒸着プロセスにおいて重要な要素である。
スパッタリング収率は主に、ターゲット材料、衝突粒子の質量、衝突粒子のエネルギーの3つの主要因に依存する。スパッタリングが起こるエネルギー範囲（10～5000eV）では、スパッタリング収率は粒子の質量とエネルギーとともに増加する。
スパッタの歩留まりは、イオンが表面に衝突する角度、衝突時のイオンエネルギー量、イオンの重量、ターゲット材料の原子の重量、ターゲット材料の原子間の結合エネルギー、磁場の強さと設計要因（マグネトロンカソードの場合）、プラズマガスの圧力など、さまざまな要因に影響される。
ターゲット材料から原子を放出させるためには、イオンのエネルギーが最低限必要であり、通常は30～50eVである。この閾値を超えると、スパッタリング収量が増加する。しかし、高いイオンエネルギーでは、エネルギーがターゲットの奥深くまで沈着し、表面にはほとんど到達しないため、収率の増加は急激に平坦化する。
イオンとターゲット原子の質量の比が、運動量移動の可能性を決定する。軽いターゲット原子の場合、ターゲットとイオンの質量がほぼ一致したときに最大収率が得られます。しかし、ターゲット原子の質量が大きくなるにつれて、最大収率はイオンとターゲット原子の質量比が大きくなる方向にシフトします。
スパッタ蒸着プロセスには、高い蒸着速度や幅広い材料の蒸着が可能といった利点がある。しかし、設備費が高いこと、材料によっては蒸着速度が比較的低いこと、イオン衝撃による有機固体の劣化、蒸着に比べて基板に不純物が混入しやすいことなどの欠点もある。
全体として、スパッタリング収率は成膜プロセスの効率と効果を決定するため、スパッタ成膜プロセスで考慮すべき重要なパラメータです。
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