ラボ用材料は、最適な特性、性能、品質を必要とする先進技術の研究、開発、生産にとって重要なコンポーネントです。
KinTek は、金属、金属酸化物、化合物を含む幅広い高純度材料を提供します。これらの材料は純度 99.99% または 5N (ファイブナイン) レベルで、高品質の磁性材料や半導体材料、蛍光体、熱電材料の調製などのさまざまな用途に適しています。
ラボ用材料は、最適な特性、性能、品質を必要とする先進技術の研究、開発、生産にとって重要なコンポーネントです。
KinTek は、金属、金属酸化物、化合物を含む幅広い高純度材料を提供します。これらの材料は純度 99.99% または 5N (ファイブナイン) レベルで、高品質の磁性材料や半導体材料、蛍光体、熱電材料の調製などのさまざまな用途に適しています。
高純度亜鉛(Zn)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZN
高純度ジルコニウム(Zr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZR
高純度ハフニウム(Hf)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HF
高純度レニウム(Re)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-RE
高純度イリジウム(Ir)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-IR
高純度二酸化ケイ素(SiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-SIO2
高純度酸化ハフニウム(HfO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-HfO2
高純度二酸化チタン(TiO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiO2
高純度酸化ジルコニウム(ZrO2)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZrO2
高純度酸化タングステン(WO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-WO3
高純度酸化ニオブ(Nb2O5)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Nb2O5
高純度酸化タンタル(Ta2O5)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Ta2O5
高純度酸化モリブデン(MoO3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MoO3
高純度酸化アルミニウム(Al2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Al2O3
高純度酸化亜鉛(ZnO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ZnO
高純度酸化マグネシウム(MgO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-MgO
高純度酸化ビスマス(Bi2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Bi2O3
高純度酸化クロム(Cr2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Cr2O3
高純度酸化ニッケル(Ni2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Ni2O3
高純度酸化バナジウム(V2O3)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-V2O3
高純度アルミニウムドープ酸化亜鉛(AZO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AZO
高純度インジウムスズ酸化物(ITO)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-ITO
高純度酸化鉄(Fe3O4)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-Fe3O4
タンタル・タングステン合金(TaW)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TaW
チタンシリコン合金(TiSi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiSi
タングステンチタン合金(WTi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-WTi
チタンニッケル銀合金(TiNiAg)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-TiNiAg
リチウムアルミニウム合金(AlLi)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AlLi
アルミニウムクロム合金(AlCr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-AlCr
ニッケルクロム合金(NiCr)スパッタリングターゲット/粉末/ワイヤー/ブロック/顆粒
商品番号 : LM-NiCr
高純度材料の分野では、純度レベルはパーセンテージで表されます。たとえば、2N が 99%、2N5 が 99.5%、3N が 99.9%、3N5 が 99.95%、4N が 99.99%、4N5 が 99.995%、6N が 99.9999 です。 %、7N は 99.99999%。たとえば、4N-6N は 99.99% ~ 99.9999% の範囲の純度レベルを意味します。
スパッタリングは、プラズマまたはガスからの高エネルギー粒子が固体材料の表面に衝突し、微細な粒子が放出される物理現象です。このプロセスは宇宙空間で自然に発生し、精密部品に不要な摩耗を引き起こす可能性があります。ただし、光学コーティング、半導体デバイス、およびナノテクノロジー製品の製造において、精密なエッチング、分析技術を実行し、薄膜層を堆積するために科学や産業でも利用されています。
スパッタリングターゲットは、さまざまな製品のコーティングの作成など、幅広い用途に使用できます。たとえば、タンタル スパッタリング ターゲットは、現代のエレクトロニクスの必須コンポーネントの製造に使用されています。これらのコンポーネントには、マイクロチップ、メモリ チップ、プリント ヘッド、フラット パネル ディスプレイなどが含まれます。
スパッタリング ターゲットのもう 1 つの重要な用途は、Low-E ガラスとしても知られる低放射線コーティングされたガラスの製造です。このタイプのガラスは、その省エネ特性、光の制御能力、および美的魅力により、建築建設によく使用されます。
再生可能エネルギーへの需要の高まりに伴い、スパッタコーティング技術は第3世代薄膜太陽電池の作製にも活用されています。これらの太陽電池はスパッタリングターゲットを使用して製造されるため、太陽電池パネルの製造に不可欠な要素となります。
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冷間静水圧プレス (CIP) サービスは、製品または冷間圧縮粉末を滅菌するために非常に高い圧力を利用します。 CIP は、複雑な形状を作成し、材料の最終密度を高めるのに特に効果的です。
温間静水圧プレス (WIP) は、熱と圧力を組み合わせて高品質の部品を作成する静水圧プレスの一種です。 WIP プロセスでは、部品を柔軟な金型内に配置し、その後気体または液体の媒体で満たします。
静水圧プレスはさまざまな業界で重要な役割を果たし、材料の強化と製品の作成に独自の機能を提供します。これらの強力な機械は全方向から均等な圧力を加え、均一な密度と欠陥の少ない製品をもたらします。等方圧プレスは、冷間等方圧プレス (CIP) と熱間等方圧プレス (HIP) の 2 つの主なタイプに分類されます。それぞれのタイプで異なる条件下で機能するため、幅広い用途に使用できます。
冷間静水圧プレス (CIP) は、粉末を充填した容器に全方向から均一な圧力を加える粉末圧縮技術です。
冷間静水圧プレス (CIP) は、液体圧力を使用して粉末を圧縮することによって材料を加工する方法です。金型加工に似ており、パスカルの法則に基づいています。
温間静水圧プレス (WIP) は、材料の密度を高め、欠陥を減らすために使用される高圧技術です。これには、材料を高圧および高温にさらすと同時に、不活性ガスを適用して材料を均一に圧縮することが含まれます。
静水圧プレスは、高性能な素材や部品の製造に用いられるプロセスです。材料や部品の全面に均一な圧力を加えることで、密度が均一になり、機械的特性が向上します。
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